ダイヤモンド膜の表面反応に関する計算化学的検討

○田村宏之	たむら ひろゆき		東北大院工
  周 慧		しゅう けい		東北大院工
  高見 誠一	たかみ せいいち		東北大院工
  久保 百司	くぼ ももじ		東北大院工
  宮本 明	みやもと あきら		東北大院工
  蒲生西谷 美香	がもうにしたに みか	無機材研
  安藤 寿浩	あんどう よしひろ	無機材研

ダイヤモンドやc-BNは耐摩耗性の高い硬質膜として注目されている。ダイヤモ
ンド薄膜はCVDによって形成されるが、表面の平滑化を高めるために、その構
造および化学反応の機構に興味がもたれている。また、不純物をドープするこ
とによる半導体としての特性、およびドーピングのメカニズムに関心が集まっ
ている。本研究では、ダイヤモンド表面の構造と水素および酸素との反応機構、
および不純物のドーピングのメカニズムを量子化学計算で検討した。